8. PhotonicNet Arbeitskreis "Oberflächenbearbeitung"
| Datum |
12.02.2008 von 10:30 bis 15:00 |
|---|---|
| Ort | Münster / Steinfurt |
| Kontakt | PhotonicNet GmbH / Ann Haselroth |
| haselroth@photonicnet.de | |
| Telefon | 0511 / 277 1642 |
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|
Schwerpunkt: Laserbasierte Analyse und Charakterisierung von Oberflächen
Der Arbeitskreis trifft sich zweimal im Jahr und steht allen Interessenten offen, die sich branchenübergreifend
Aktuelles Programm
10:30 Uhr Begrüßung
G. Spiecker (Coherent GmbH, Sprecher des Arbeitskreises)
Prof. Dr. Klaus Dickmann (LFM)
10:40 Uhr Vorstellung der Aktivitäten im Laserzentrum Fachhochschule Münster (LFM)
Prof. Dr. Klaus Dickmann (LFM)
11:00 Uhr Chemische Charakterisierung von Oberflächen mit Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry (TOF-SIMS) und Low Energy Ion Scattering LEIS)
Sven Kayser (ION-TOF GmbH, Münster)
11:40 Uhr Detektion von Schichten mittels LIBS-Technik
Jens Hildenhagen (LFM)
12:00 Uhr Mittagspause (Imbiss)
12:45 Uhr Besichtigung LFM
13:30 Uhr VUV-Lichtquellen für die Spurenanalytik
Dr. A. Görtler Coherent GmbH, München
13:50 Uhr Einzelmolekülaufgelöste Analytik an Biologischen Oberflächen
Dr. Jörg Eisfeld (Ionovation GmbH, Osnabrück)
14:10 Uhr Optisch-funktionale Oberflächen durch Laserstrukturierung
Dr. Martin Wehner (Fraunhofer-ILT, Aachen)
14:30 Uhr Hochleistungslaser für die Oberflächenreinigung und Entschichtung
Dr. Uwe Stute (TRUMPF Laser GmbH + Co. KG, Schramberg)
ca. 15:00 Uhr Ende der Veranstaltung
Veranstaltungsort:
Laserzentrum Fachhochschule Münster (LFM)
Stegerwaldstr. 39
48565 Steinfurt (Ortsteil: Burgsteinfurt)
Tel. 02551 / 962324
- über neue Entwicklungen austauschen,
- den Wissenstransfer aus der Wissenschaft in die Industrie und umgekehrt beschleunigen
- und Partner für Förder- und Forschungsprojekte finden möchten.
Aktuelles Programm
10:30 Uhr Begrüßung
G. Spiecker (Coherent GmbH, Sprecher des Arbeitskreises)
Prof. Dr. Klaus Dickmann (LFM)
10:40 Uhr Vorstellung der Aktivitäten im Laserzentrum Fachhochschule Münster (LFM)
Prof. Dr. Klaus Dickmann (LFM)
11:00 Uhr Chemische Charakterisierung von Oberflächen mit Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry (TOF-SIMS) und Low Energy Ion Scattering LEIS)
Sven Kayser (ION-TOF GmbH, Münster)
11:40 Uhr Detektion von Schichten mittels LIBS-Technik
Jens Hildenhagen (LFM)
12:00 Uhr Mittagspause (Imbiss)
12:45 Uhr Besichtigung LFM
13:30 Uhr VUV-Lichtquellen für die Spurenanalytik
Dr. A. Görtler Coherent GmbH, München
13:50 Uhr Einzelmolekülaufgelöste Analytik an Biologischen Oberflächen
Dr. Jörg Eisfeld (Ionovation GmbH, Osnabrück)
14:10 Uhr Optisch-funktionale Oberflächen durch Laserstrukturierung
Dr. Martin Wehner (Fraunhofer-ILT, Aachen)
14:30 Uhr Hochleistungslaser für die Oberflächenreinigung und Entschichtung
Dr. Uwe Stute (TRUMPF Laser GmbH + Co. KG, Schramberg)
ca. 15:00 Uhr Ende der Veranstaltung
Veranstaltungsort:
Laserzentrum Fachhochschule Münster (LFM)
Stegerwaldstr. 39
48565 Steinfurt (Ortsteil: Burgsteinfurt)
Tel. 02551 / 962324
Anmeldung (bis 06.02.)


